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雜質(zhì)濃度測(cè)試儀的原理

更新時(shí)間:2017-08-31      點(diǎn)擊次數(shù):300

雜質(zhì)濃度測(cè)試儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介 

原理:根據(jù)硅、鍺單晶的遷移率、電阻率和雜質(zhì)濃度的關(guān)系,可直接測(cè)量、計(jì)算出晶體內(nèi)的雜質(zhì)濃度。  
范圍:它適合于測(cè)量橫截面尺寸是可測(cè)量的,而且棒的長(zhǎng)度大于橫截面線度的有規(guī)則的長(zhǎng)棒,例如橫斷面為圓形、正方形、長(zhǎng)方形或梯形的單晶或多晶錠。  
用途:根據(jù)測(cè)量沿錠長(zhǎng)雜質(zhì)濃度的分布狀況決定產(chǎn)品的合格部分,通過(guò)雜質(zhì)濃度的直接測(cè)量,決定晶體生長(zhǎng)過(guò)程中的摻雜數(shù)量。  
樣品可在常溫或低溫下測(cè)量。  
顯示方式:儀器連接PC機(jī),通過(guò)測(cè)試軟件計(jì)算,用對(duì)數(shù)坐標(biāo)的方式來(lái)顯示雜質(zhì)濃度(含次方數(shù))沿錠長(zhǎng)的分布曲線,可對(duì)曲線圖進(jìn)行打印和保存。  
測(cè)量范圍: 可測(cè)晶體電阻率:0.005-3000Ω·cm。  
直流數(shù)字電壓表測(cè)量范圍:0-199.99mV,靈敏度:10μA。 

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